硬质合金化学机械抛光工件-磨粒-抛光垫接触状态研究
毛美姣, 许庆, 刘静莉, 袁巨龙, 李敏, 胡自化
Contact States of Workpiece-Abrasive Particles-Polishing Pad in Cemented Carbide CMP Processes
MAO Meijiao, XU Qing, LIU Jingli, YUAN Julong, LI Min, HU Zihua
中国机械工程
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2021, (17): 2074
-2081
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DOI: 10.3969/j.issn.1004-132X.2021.17.008
