硬质合金化学机械抛光工件-磨粒-抛光垫接触状态研究

doi:10.3969/j.issn.1004-132X.2021.17.008

中国机械工程 ›› 2021, Vol. 32 ›› Issue (17): 2074-2081.DOI: 10.3969/j.issn.1004-132X.2021.17.008

硬质合金化学机械抛光工件-磨粒-抛光垫接触状态研究

毛美姣1，3;许庆1;刘静莉1;袁巨龙2，3，4;李敏3，4;胡自化1

1.湘潭大学复杂轨迹加工工艺及装备教育部工程研究中心，湘潭，411105
2.浙江工业大学特种装备制造与先进加工技术教育部重点实验室，杭州，310014
3.湖南大学国家高效磨削工程技术研究中心，长沙，410082
4.湖南科技大学智能制造研究院，湘潭，411201

出版日期:2021-09-10 发布日期:2021-09-28
通讯作者: 李敏（通信作者），男，1983年生，研究员、博士研究生导师。研究方向为精密与超精密加工技术及装备。E-mail：li-min-wax@hnust.edu.cn。
作者简介:毛美姣，女，1977年生，博士、副教授。研究方向为精密与超精密加工技术及装备。E-mail：maomj2000@163.com。
基金资助:
国家自然科学基金（U1809221）；
湖南省重点研发计划（2017GK2050）；
湖南省教育厅科学研究项目（19K094）

Contact States of Workpiece-Abrasive Particles-Polishing Pad in Cemented Carbide CMP Processes

MAO Meijiao1，3;XU Qing1;LIU Jingli1;YUAN Julong2，3，4;LI Min3，4;HU Zihua1

1.Engineering Research Center of Complex Tracks Processing Technology and Equipment of Ministry of Education，Xiangtan University，Xiangtan，Hunan，411105
2.Key Laboratory of Special Purpose Equipment and Advanced Processing Technology of Ministry of Education，Zhejiang University of Technology，Hangzhou，310014
3.National Engineering Research Center for High Efficiency Grinding，Hunan University，Changsha，410082
4.Intelligent Manufacturing Institute，Hunan University of Science and Technology，Xiangtan，Hunan，411201

Online:2021-09-10 Published:2021-09-28

摘要/Abstract

摘要： 基于弹塑性力学理论，对工件-磨粒-抛光垫间的接触状态进行理论分析，计算各状态下磨粒压入工件深度，建立接触状态临界条件的数学模型，并进行实验验证。研究结果表明：在硬质合金化学机械抛光过程中，工件-磨料-抛光垫间存在着非接触状态、部分接触状态和完全接触状态三种形式；不同接触状态下磨粒压入深度主要受抛光载荷、磨粒粒径以及工件表面软质层硬度影响，临界条件由抛光垫特性、磨粒质量分数以及抛光载荷共同决定。实验结果表明所建立的数学模型是可信的。

关键词: 硬质合金, 化学机械抛光, 接触状态, 压入深度, 临界条件

Abstract: Theoretical analysis of the contact states among workpiece， abrasive particles and polishing pads was carried out based on the theory of elastoplastic mechanics， the depth of the abrasive particles pressed into the workpieces under each contact states was calculated， and the mathematical model of the critical conditions of the contact states was established， and the verification experiments were conducted. The research results show that in the cemented carbide CMP processes， there are three forms of non-contact state， partial contact state， and full contact state among workpiece， abrasive particles and polishing pads. The depth of the abrasive particles pressed into the cemented carbide workpieces in the three contact states is mainly affected by the polishing load， the size of the abrasive particles and the hardness of soft layer of workpiece， and the critical conditions of each contact states are determined by the characteristics of the polishing pad， the mass fraction of abrasive particles， and the polishing load. The experimental results show that the established mathematical model is credible.

Key words: , cemented carbide, chemical mechanical polishing(CMP), contact state, pressed depth, critical condition

中图分类号:

TG175

毛美姣, 许庆, 刘静莉, 袁巨龙, 李敏, 胡自化. 硬质合金化学机械抛光工件-磨粒-抛光垫接触状态研究[J]. 中国机械工程, 2021, 32(17): 2074-2081.

MAO Meijiao, XU Qing, LIU Jingli, YUAN Julong, LI Min, HU Zihua. Contact States of Workpiece-Abrasive Particles-Polishing Pad in Cemented Carbide CMP Processes[J]. China Mechanical Engineering, 2021, 32(17): 2074-2081.

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