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ISSN 1004-132X
CN 42-1294/TH
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半导体制造中涂胶工艺的研究进展
向东1, 何磊明1, 瞿德刚1, 2, 牟鹏1, 段广洪1
Development of Coating of Photoresist in Semiconductor Manufacturing
XIANG Dong-1, HE Lei-Meng-1, JI De-Gang-1, 2, MAO Feng-1, DUAN An-Hong-1
中国机械工程 . 2012, (
3
): 354 -361 .