摘要:
将粒度号和组织号作为刻画磨粒的两个基本参数,并假设磨粒出刃高度服从高斯分布、单颗磨粒为尖端球形的圆锥、抛光工具和工件的名义接触压力服从椭圆赫兹分布、磨粒和工件之间的实际接触压力与名义接触压力存在近似比例关系,推证了沿抛光轨迹在抛光点处的材料去除深度模型,并重点讨论了其求解过程。该模型表明材料去除深度与磨粒的粒度号和组织号、法向抛光力、进给速度、抛光工具和工件之间的切向相对速度以及相对主曲率等工艺参数相关。仿真和试验结果有较好的一致性,说明该建模方法是可行的。
中图分类号:
吴昌林, 丁和艳, 陈义.
材料去除深度与磨粒的关系建模方法研究
[J]. 中国机械工程, 2011, 22(3): 300-304.
TUN Chang-Lin, DING He-Yan, CHEN Xi.
Research on Modeling Method of Relation between Abrasive Grain and Material Removal Depth
[J]. China Mechanical Engineering, 2011, 22(3): 300-304.